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硅刻蚀过程中的原位拉曼光谱研究--溶液pH值的影响
【机 构】
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大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室物理化学研究所
【出 处】
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全国第10届分子光谱学术报告会
【发表日期】
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1998年8期
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