论文部分内容阅读
PVD中等离子体鞘层与膜层质量控制
【机 构】
：
哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室,哈尔滨,150001
【出 处】
：
第五届全国工业等离子体会议暨第五届高离化磁控多弧技术研讨会及第二届 PVD 企校合作高层论坛
【发表日期】
：
2017年12期
其他文献
本报告综述介绍了微纳米结构薄膜的制备与应用背景，常压等离子体及对沉积薄膜结构的调控，以及常压等离子体化学气相沉积钛基薄膜、常压等离子体化学气相沉积硅基薄膜及其应
Fourier coefficients of automorphic forms are powerful tools in the applications of analytic properties of automorphic forms to arithmetic problems in numbe
会议
We show a simple relation between local correspondence for tori and the theory of norm fields of Fontaine and Wintenberger.
会议