【摘 要】
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该文利用纳米AlO做为助烧剂和结构掺杂物，大量的实验表明随着AlO含量的差异，AlO在SiN中的行为具有不同的特点。少量的掺杂为SiN的性能的提高提供了微观结构上的保证，多量的掺杂
【机 构】
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大学北京精细陶瓷实验室新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室
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该文利用纳米Al<,2>O<,3>做为助烧剂和结构掺杂物，大量的实验表明随着Al<,2>O<,3>含量的差异，Al<,2>O<,3>在Si<,3>N<,4>中的行为具有不同的特点。少量的掺杂为Si<,3>N<,4>的性能的提高提供了微观结构上的保证，多量的掺杂导致了Si<,3>N<,4>晶界上的偏析行为，导致了Si<,3>N<,4>性能的劣化，合适的Al<,2>O<,3>是提高Si<,3>N<,4>性能的关键。
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