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在纹影技术中，聚焦纹影具有流场视域大、抗光波干扰能力强、成本低等特点，其中最主要的特点是聚焦特性，表现为在较小的景深范围内成像清晰，景深之外的扰动成像模糊，这有效的减少了流场以外扰动的干扰。
本文介绍了聚焦纹影技术的基本原理，推导了聚焦纹影系统中景深的分析过程，讨论了各个系统参数对景深的影响，同时对传统纹影系统的景深与聚焦纹影的景深作比较，验证了聚焦特性方面的优势，为聚焦纹影的应用提供设计依据，具有一定的参考价值。