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文中利用MOCVD方法,采用高质量GaN作为缓冲层,在(0001)取向的蓝宝石衬底上实现了不同组分的AlxGa1-xN/GaN分布布拉格反射镜(DBR)的制备.通过XRD、SEM、AFM、反射谱等测量分析手段,研究了AlxGa1-xN/GaN DBR的结构质量、厚度和表面形貌.
AlGaNGaN分布布拉格反射镜的MOCVD生长
【摘 要】
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文中利用MOCVD方法,采用高质量GaN作为缓冲层,在(0001)取向的蓝宝石衬底上实现了不同组分的AlxGa1-xN/GaN分布布拉格反射镜(DBR)的制备.通过XRD、SEM、AFM、反射谱等测量分析
【机 构】
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江苏省光电信息功能材料重点实验室,南京大学物理系,江苏,南京,210093中国科学院上海技术物理研究所,上海,200080江苏省光电信息功能材料重点实验室,南京大学物理系,江苏,南京,210093;北
【出 处】
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首届全国先进焦平面技术研讨会
【发表日期】
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2005年8期
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