PVD对靶磁控溅射在轧制Ag基带上镀制YBCO织构薄膜

来源 :'96中国材料研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhangzujin
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为了研制YBCO长线带材,该文选用韧性多晶金属Ag为基片,采用改进后的PVD对靶磁控油射装置在其上镀制了较强C轴(001)织构的YBCO薄膜。改装后的实验装置由一对相对放置的矩形平面磁控靶、基带加热装置、输带机构和配气系统等组成。可实现薄膜动态的连续镀制和原位处理。矩形靶采用冷等静压后烧制成,该方法可制成不同形状的异形靶材。实验中还发现Ag基片本身的状态对生长YBCO织构薄膜有重要影响。他们通过改变Ag基片的轧制状态,并控制镀膜工艺,从而获得了较强C轴(001)织构的YBCO薄膜短试样。
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