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Hf掺杂浓度对电子型掺杂锰氧化物La1-xHfxMnO3(0.05≤x≤0.3)的磁学和电学特性的影响
【机 构】
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北京凝聚态物理国家实验室,中国科学院物理研究所,北京 100190 香港大学物理系,薄扶林道,香港
【出 处】
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中国物理学会2011年秋季学术会议
【发表日期】
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2011年9期
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