【摘 要】
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嵌段聚合物，由于其可以自发组装为丰富的100nm以下的形貌结构，可以作为纳米刻蚀和纳米沉积的模板，因此在微电子、光伏器件、信息储存器件、生物传感等领域有着潜在的应用.为
【机 构】
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中国科学院化学研究所,北京,100190
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嵌段聚合物，由于其可以自发组装为丰富的100nm以下的形貌结构，可以作为纳米刻蚀和纳米沉积的模板，因此在微电子、光伏器件、信息储存器件、生物传感等领域有着潜在的应用.为了得到较高宽深比的嵌段聚合物刻蚀模板，需要对其取向进行调控进而得到垂直取向的柱状或层状形貌.我们利用CVD方法生长的单层石墨烯作为调控其形貌取向的基底界面，通过控制紫外臭氧氧化石墨烯的处理时间，在适宜的时间范围内可以得到大面积的垂直取向的PS-b-PMMA薄膜.并且通过控制薄膜的膜厚，在约1.6L0的膜厚范围内，均可以得到垂直取向的薄膜.之后，借助于直接使用生长在铜箔上的石墨烯，其基底铜箔易于腐蚀掉，因此形成的聚合物薄膜图案可以作为一种自支撑薄膜，可以转移到任意的目标基底上.最后，使用电置换沉积金的方法，我们利用嵌段聚合物的模板在硅基底上得到了金纳米粒子的图案.这种利用紫外臭氧处理的单层石墨烯作为调控PS-b-PMMA垂直取向的方法在得到石墨烯的图案和其他图案技术方面有着潜在的使用价值.
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