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Deposition and Properties of Highly C-oriented of InN Films on Sapphire Substrates with ECR-plasma E
【机 构】
：
School of Physics and Optoelectronic Technology, Dalian University of Technology,Dalian 116024 China
【出 处】
：
2011年材料表面与界面国际大会
【发表日期】
：
2011年期
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