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该文介绍了在８６３新材料领域资助下最新研制成功的１００ｋＷ级高功率直流等离子体喷射（ＤＣ Ｐｌａｓｍａ Ｊｅｔ）金刚石膜沉积系统。利用该系统在氩气－氢气－甲烷气体系中进行了初步的工艺试验，经过４０ｈ的连续运行，可在φ１１０ｍｍ的基片上沉积出中心厚１．９ｍｍ，边沿厚１．６ｍｍ的金功石膜，平均生长速率达４４μｍ／ｈ。由于采用了半开放式气体循环系统，可大大降低气体的消耗，从而可大幅度地降低金刚石厚膜的制备成本。