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Effect on the Etching Profile of Al2O3 Thin Film in BCl3C12-based Inductively Coupled Plasma
【机 构】
：
Chung-AngUniversity,221Heukseok-Dong,Dongjak-Gu,Seoul156-756,Korea
【出 处】
：
9th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology
【发表日期】
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2008年10期
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