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基于液晶材料的双折射效应，提出了一种在惯性约束聚变(ICF)驱动器中用于远场焦斑整形的新型阵列偏振匀滑技术。这种器件可以方便地实现传统的基于双折射晶体材料的阵列偏振旋转器相当的偏振匀滑效果，可对阵列的规模进行灵活的扩展，增加输出偏转态的多样性和无序性，能有效避免TSRS等各种非线性效应。同时在工艺难度、加工周期、装调精度控制和成本等方面具有明显的优势，是对现有偏振匀滑技术的一种重要的补充和发展。