Low-Temperature Fabrication of High Performance Indium Oxide Thin Film Transistors

来源 :第二十届全国半导体物理学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hjx9062
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本文采用分子束外延设备(MBE)在非有意掺杂的GaSb 衬底生长InAs/GaSb 二类超晶格红外探测器,分别实现了超短波(<2 微米),短波(2-3 微米)以及中波(3-5 微米)红外探测.在77 K 下,超短波范围内对应的50%截止波长为1.91 微米,峰值为1.84 微米,Johnson 限制噪声探测率达1.1*1013 Jones;在短波范围内,对应的50%截止波长为2.56 微米,峰值波
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The layered graphene was deposited by exploit technique,and the graphene based field effect transistor was fabricated by ultraviolet photolithography method.
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