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多孔硅材料的电致发光特性及其微结构
多孔硅材料的电致发光特性及其微结构
来源 :第九届全国半导体集成电路、中国有色金属学会硅材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cynosure
【摘 要】
:
该文系统考察了衬底硅材料的掺杂类型、浓度、阳极氧化电流密度、时间等工艺条件对多孔硅可见光电致光特性影响,考察了其微结构,从理论上讨论了多孔硅微结构的形成与上述工艺条
【作 者】
:
邹秦
【机 构】
:
交通大学电子与信息工程学院
【出 处】
:
第九届全国半导体集成电路、中国有色金属学会硅材料学术会议
【发表日期】
:
1995年期
【关键词】
:
多孔硅材料
发光特性
工艺条件
氧化电流密度
多孔硅微结构
系统考察
特性影响
阳极
浓度
理论
光电
衬底
掺杂
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该文系统考察了衬底硅材料的掺杂类型、浓度、阳极氧化电流密度、时间等工艺条件对多孔硅可见光电致光特性影响,考察了其微结构,从理论上讨论了多孔硅微结构的形成与上述工艺条件的关系。
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