【摘 要】
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本研究以銀鏡反應方式將銀粒子沉積於陽極氧化鋁基板(anodized aluminum oxide,AAO)之上,探討溶液反應濃度及製程步驟對沉積粒子之影響,藉由掃描式電子顯微鏡(scanning electron microscope,SEM)及穿透式電子顯微鏡(transmission electronmicroscope,TEM)分析不同濃度氨銀錯離子(0.1 M、0.01 M、0.001 M
【机 构】
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國立虎尾科技大學 材料科學與工程系
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本研究以銀鏡反應方式將銀粒子沉積於陽極氧化鋁基板(anodized aluminum oxide,AAO)之上,探討溶液反應濃度及製程步驟對沉積粒子之影響,藉由掃描式電子顯微鏡(scanning electron microscope,SEM)及穿透式電子顯微鏡(transmission electronmicroscope,TEM)分析不同濃度氨銀錯離子(0.1 M、0.01 M、0.001 M),於沉積時間30s 及90 s 樣品表面銀奈米粒子之形貌及微結構,得到濃度0.001 M、沉積20 s 且在滴定酒精前放置試片有較理想的沉積參數,並使用Rhodamine 6G(R6G)作為評估之待測物,以拉曼光譜儀(Raman spectrometer)分析銀粒子於不同基板上之拉曼增強效果.實驗結果得知,比較未進行陽極氧化之鋁箔與AAO 發現,AAO 基板本身增強拉曼效果較弱,且銀鏡反應之錯離子濃度0.001 M 可沉積奈米尺寸銀粒子於鋁箔上,且依實驗步驟的不同,先放置試片相較於後放置試片的增強拉曼光譜效果較好,拉曼增強因子(enhancement factor,E.F 值)提升至694.02.
其他文献
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以溶膠凝膠法搭配溫控化學液相反應器製作TiO2 微球，以異丙醇鈦(TitaniumIsopropoxide； 0.8～1.4 mM)為前驅物，乙二醇(Ethylene Glycol)為金屬醇鹽之水解抑制劑，令異丙醇鈦避免過快的水解反應所造成的團聚或沉澱情形.透過丙酮溶液的含水量(0.5～1.25 vol.％)控制水解速率.調控攪拌速率能有效抑制微球間產生緊縮(Necking)及團聚情形.以沉積沉澱
本研究採用一快速且簡易的電泳自組裝(Electrophoretic Self-assembly； EPSA)技術，將單分散之聚苯乙烯(PS)微球(500 nm)整齊有序排列製作三維(3-D)週期性光子晶體(Photonic Crystal)模板。藉由不同相對電極規格造成調控電場分布情形與電場強度，透過電場分布不均勻的作用，將有效控制膠體粒子間的側向移動速率，利於獲得品質良好的PS 微球光子晶體結構
本研究採用改良式硫酸鋁銨法製備高純度氧化鋁微粉,在前驅物中加入PEG6000作為燒結中阻隔氧化鋁團聚的介質,來抑制氧化鋁煅燒時可能產生的指狀生長及團聚現象,在氮氣氛下升溫至1250℃進行煅燒,再將溫度降至900℃進行有氧燒結,獲得兼具高純度且易燒結之氧化鋁微粉,其平均粒徑約0.3μm,團聚現象大幅減少,但是有部份θ-Al2O3殘留,未完全轉換為α-Al2O3,由此推斷添加PEG分散劑會阻隔Al2O
本研究首先以熱蒸鍍儀於Si 基板上鍍Ni 膜作為附著層，再鍍上Cu 膜作為氧化銅奈米線成長的底材，接著於底材上滴NaOH 或LiOH 水溶液並放入高溫爐進行熱處理，以應力輔助與臨場摻混之機制成長摻混Na 或Li 的氧化銅奈米線.掃描式電子顯微鏡(SEM)顯示摻混Li 的奈米線形貌明顯較粗較長且成長密度較高.我們並以能量色散X-射線光譜(EDS)及歐傑電子能譜儀(AES)做單根奈米線成分分析，證明有
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本研究利用直接加熱法與濕式化學法於銅網表面成長出三維氧化銅/氧化鋅奈米結構。藉由適當的氧化鋅前驅物可以有效操控分支氧化鋅奈米線的密度，並進一步探討此三維氧化銅/氧化鋅奈米結構於光催化分解羅丹明6G 之影響。由於此三維氧化銅/氧化鋅奈米結構相較於商業用的氧化鋅與二氧化鈦奈米粉體具備有較高比表面積且不會相互聚集進而導致具有較佳的光催化效率與高的重複使用率。此外，本研究還有利用蒸鍍法沉積銀奈米粒子於不同
本研究利用射頻磁控濺鍍機(RF magnetron Sputter)，以不同功率將銀沉積在螺絲上並探討不同退火溫度對抗菌效果之影響。實驗分別以XRD 觀察退火後的晶體結構、FESEM觀察顯微結構及其膜厚，應用方面，則是以田間實驗的方式觀察是否抑制藻菌生成及其壽命來評估抗藻菌螺絲效果。結果發現，經過60 天抗藻菌螺絲表面仍保持光滑平整，而未經處理的螺絲則開始有青苔生成的現象，經一段時間使用後容易造成
本研究透過脈衝雷射沉積法成長尖晶石結構之鈷鐵氧(CoFe2O4,CFO)薄膜於層狀兼併可撓之白雲母(Muscovite,Mica)基板上.於成長過程,利用反射式高能電子繞射儀(RHEED)即時監控CFO 薄膜之成長模式,證實其為逐層(layer by layer)成長,RHEED圖案呈現線狀,說明CFO 薄膜表面極為平坦,經由原子力顯微鏡(AFM)影像證實CFO薄膜之方均根粗糙度為0.55 nm.
本研究採用靜電紡絲法製備(□)-Fe2O3 與添加CuO 於(□)-Fe2O3 之奈米纖維(爾後縮寫為CuO/(□)-Fe2O3)，分析不同鐵銅莫爾比的CuO/(□)-Fe2O3 之間的微結構與晶相差異。吾人利用PVP 作為高分子模板，於550℃將高分子模板燒除，留下(□)-Fe2O3 與CuO/(□)-Fe2O3 奈米纖維，再利用SEM、XRD、TGA、TEM 與ICP 等分析奈米纖維之結構差異