【摘 要】
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原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition,ALD)可制备无缺陷、超薄的保形性薄膜,常应用于各种材料的表面阻隔层的制备.除了有机光伏(OPV)、有机电致发光器件(EL)和有机发光二
【机 构】
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中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心, 嘉兴314006
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原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition,ALD)可制备无缺陷、超薄的保形性薄膜,常应用于各种材料的表面阻隔层的制备.除了有机光伏(OPV)、有机电致发光器件(EL)和有机发光二极管(OLED)等的水氧阻隔外,这一技术也被应用于金属材料表面的腐蚀性离子的阻隔,从而提升其抗腐蚀性能.
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