论文部分内容阅读
应用Sol-Gel技术在石英和Si(100)衬底上制备了SrTiO3纳米薄膜。采用掠入射X射线衍射(GIXRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和NKD-8000型薄膜分析仪等对所制备的SrTiO3薄膜的结构、表面形貌、透过率和折射率等进行表征。结果表明，在溶胶中加入适量表面活性剂聚乙烯吡咯烷酮(PVP)，且退火温度为800℃时，制备出的SrTiO3薄膜表面相对均匀平整，薄膜的厚度d为110nm左右，折射率n为1.888，消光系数k为0.00225，平均表面粗糙度Ra为2.419nm，400nm-1000nm波长范围内的平均透过率达到90％左右。