缺陷在TiNi可逆记忆效应中作用的正电子研究

来源 :全国第七届正电子湮没学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hhhanyin
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测量了若干具有可逆形状记忆效应的Ti-51.0at.℅Ni试样的正电子湮没多普勒展谱线形参数。分析表明:凡可逆形状记忆效应好的试样都含有结构缺陷。但是,并不是所有包含结构缺陷(或结构不均匀性)的试样都能给出好的可逆形状记忆效应;要获得好的可塑料形状记忆效应,试样中的结构缺陷在密度上必须适量,数量太多或太少都不能产生好的记忆性能。在结构缺陷和结构缺陷的密度适量对TiNi合金获得好的记忆效应是同等重要的。
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