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该文阐述了彩色等离子体ＰＤＰ上、下基板清洗工艺流程及各种对清洗质量造成影响的因素的解决办法。
等离子体上、下基板清洗开艺的摸索
【摘 要】
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该文阐述了彩色等离子体ＰＤＰ上、下基板清洗工艺流程及各种对清洗质量造成影响的因素的解决办法。
【机 构】
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交通大学电子物理与器件研究所(西安)
【出 处】
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中国电子学会真空电子学分会第十二届学术年会
【发表日期】
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1999年9期
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