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该文介绍一种智能化等离子体化学气相沉积（ＰＣＶＤ）系统的设计方案。该系统主要由炉体及真空系统、供气系统、外加热源、幅度调制型脉冲电源和以计算机为核心的智能控制系统组成。其特点是利用近代电子学技术，在设备工作时，可实现整个ＰＣＶＤ过程完全自动化，可克服了人为因素的干扰，期望提高镀层质量和工艺稳定性。