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我们利用改性的胶体刻蚀技术制备了银的中空纳米锥台阵列膜。利用旋涂在玻璃上的光刻胶作为基底，在上面排布单层聚苯乙烯微球做掩板，经过反应性离子刻蚀后，除去上面仍残留的聚苯乙烯微球，我们得到了光刻胶的纳米锥台阵列，最后通过垂直气相沉积银及除去内部的光刻胶，我们成功的制备了具有优良等离子体共振性质的银的中空纳米锥台阵列膜。