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该文报道了射频磁控溅射制备的Co/v多层膜的结构及铁磁共振行为。对其微结构的研究发现多层膜是由柱状晶粒构成的多晶薄膜，在膜的生长方向具有fcc CO（111）和bccV（110）织构，且存在较严重的界面合金化。从铁磁共振谱中一致进动峰计算出的g因子和4Me值偏小也说明了这一点。当V层较薄时（＜2.4nm）普遍观测到自旋波共振峰，根据拟合计算出的较小的层间耦合常数说明多层膜中存在较弱的层间耦合作用。