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本文以二氧化钒陶瓷靶为靶材、采用射频磁控溅射和真空退火处理方法，对二氧化钒薄膜的制备工艺进行了研究。
使用二氧化钒靶材溅射制备薄膜的工艺研究
【摘 要】
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本文以二氧化钒陶瓷靶为靶材、采用射频磁控溅射和真空退火处理方法，对二氧化钒薄膜的制备工艺进行了研究。
【机 构】
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国防科技大学航天与材料工程学院，长沙410073
【出 处】
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TFC'07全国薄膜技术学术研讨会
【发表日期】
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2007年期
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