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本研究在对国外相关抗辐射涂层材料成分及微机构分析的基础上，研制了一种新型的高分子材料用于IC的抗辐射涂敷。该涂层涂敷前后，其抗辐射剂量发生明显变化，涂敷后的IC抗辐射剂量几乎增加了两个数量级，而且未影响IC的其它电性能。
半导体器件抗辐射涂层研究
【摘 要】
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本研究在对国外相关抗辐射涂层材料成分及微机构分析的基础上，研制了一种新型的高分子材料用于IC的抗辐射涂敷。该涂层涂敷前后，其抗辐射剂量发生明显变化，涂敷后的IC抗辐射剂量
【机 构】
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沈阳化工学院数理系，沈阳110142
【出 处】
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TFC'07全国薄膜技术学术研讨会
【发表日期】
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2007年期
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