钛合金表面电弧离子镀Ta-W涂层研究

来源 :第十一届全国表面工程大会暨第八届全国青年表面工程学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：CHENGXB

【摘要】

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【作者】

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彭小敏夏长清董丽君李东锋吴安如

【机构】

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湖南工程学院机械工程学院,湖南湘潭 411104 中南大学材料科学与工程学院,湖南长沙 410

【出处】

：

第十一届全国表面工程大会暨第八届全国青年表面工程学术会议

【发表日期】

：

2016年4期

【关键词】

：

Ta-W涂层钛合金电弧离子镀

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　　Ta涂层被认为是取代耐烧蚀涂用电镀Cr涂层的较佳候选涂层体系.本文利用电弧离子镀方法在钛合金表面制备了Ta-W涂层.研究了涂层/基体体系的显微结构及性能,以评估Ta-W涂层在钛合金表面的应用.涂层连续、均匀,主要由α-Ta(W)组成.涂层与基体晶格为共格/半共格,有助于涂层中α-Ta(W)的形成.涂层由100-250 nm致密等轴晶组成.划痕试验表明,涂层与基体的临界载荷达58.8N,可满足工程需求.950℃,3h真空热处理表明：涂层/基体界面无金属间化合物形成,仅出现约22μm互扩散层.900℃大气环境循环氧化试验表明：涂层能明显提高基体的抗氧化性能及抗热震性能.

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