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本文采用国内自主研发的多弧离子镀设备,研究涂层沉积之前离子清洗技术对涂层结构和性能的影响.不同于传统离子轰击清洗时的基体偏压(主要轰击离子为Ar+和Ti+),高能离子源清洗技术采用电子激发大量的Ar+离子实现了基体偏压较低状态下对工件的清洗.基于此,本文研究了不同清洗工艺对基材表面粗糙度的影响以及所制备的AlCrN涂层的表面形貌、硬度、膜基结合力和摩擦磨损性能.研究结果表明,低偏压状态下,高能Ar+清洗可以更有效清洁基材表面.相比于传统清洗工艺膜基结合力35.6N,高能Ar+清洗可以显著提高膜基结合强度达到48.7N.