【摘 要】
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FTO/SiO2 composite thin films were prepared by Sol-Gel method.The main raw materials were SnCl2·2H2O, NH4F, TEOS, glacial acetic acid and de-ionized water.
【机 构】
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北京交通大学,机械与电子控制工程学院,北京100044
【出 处】
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2014中国溶胶-凝胶学术研讨会暨国际论坛
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FTO/SiO2 composite thin films were prepared by Sol-Gel method.The main raw materials were SnCl2·2H2O, NH4F, TEOS, glacial acetic acid and de-ionized water.Some factors were studied, including the volume ratios of EtOH to TEOS, the volume ratios of H2O to TEOS, doping F, thickness of thin film, heat treatment and viscosity of Sol.The surface morphology, crystallization and sheet resistance of thin films were analyzed with X-ray Diffractometer (XRD), Scanning Electron Microscopy (SEM), Metallographic Microscope,Ubbelohde Viscometer, and the Surface Four-point Probe.The SiO2 Sol which is suitable to make FTO/SiO2 composite thin films is obtained.The optimal parameters are that the volume ratio of EtOH/TEOS/H2O is 4∶2∶1 and pH is 3.The heating rate influences the crack of thin films largely.When the heating rate was 0.25℃/min, the surface of thin films is flat.The doping F improves the electrical conductivity of FTO/SiO2 composite thin films significantly.
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