【摘 要】
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利用脉冲偏压阴极弧离子蒸发沉积技术在不同占空比条件下制备了(Ti,Al)N硬质薄膜,阴极弧TiAl合金靶的原子比为1∶1,使用XRD、显微硬度仪、纳米压痕仪以及金相显微镜观察了不
【出 处】
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第六届全国表面工程学术会议暨首届青年表面工程学术论坛
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利用脉冲偏压阴极弧离子蒸发沉积技术在不同占空比条件下制备了(Ti,Al)N硬质薄膜,阴极弧TiAl合金靶的原子比为1∶1,使用XRD、显微硬度仪、纳米压痕仪以及金相显微镜观察了不同占空比对薄膜微结构、硬度及表面形貌的影响.结果表明,薄膜呈面心立方晶结构,随着占空比增大,晶胞参数和晶粒尺寸单调增大,液滴对薄膜表面形貌的影响减小,薄膜的显微硬度在40％占空比时达到最大.
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