论文部分内容阅读
Ｓｉ<,3>Ｎ<,4>、ＺｒＯ<,2>陶瓷的摩擦磨损性能
【机 构】
：
中国科学院上海硅酸盐研究所
【出 处】
：
’94全国结构·功能陶瓷·金属/陶瓷封接学术会议
【发表日期】
：
1994年期
其他文献
该文应用正电子湮没技术（ＰＡＴ）研究了不同气氛（Ａｉｒ、Ａｒ、Ｈ〈，２〉、Ｎ〈，２〉、Ｏ〈，２〉）对于３ｍｏｌ℅Ｙ〈，２〉Ｏ〈，３〉－ＺｒＯ〈，２〉与１０ｍｏｌ℅ＣｅＯ〈，２〉－ＺｒＯ〈，２〉缺陷结构和浓度的影响。结果表明：由于氧分压不同，不同气氛中处理的样品得到的正电
介绍了ＳＪＣＡＰＰ专家系统的工艺创成模式，总体结构和功能模块图，简要叙述了该系统的主要特点，并指出它既可用于回转体零件，也可用于非回转体零件，具有良好的通用性和可移植性。
Introduced