【摘 要】
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Chemical vapor deposition (CVD) is broadly recognized as a flexible and economic method of large area and high quality graphene synthesis,while our understandin
【机 构】
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InstituteofTextileandClothing,HongKongPolytechnicUniversity,HongKong,PRChina
【出 处】
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2013年纳米、表面和Graphene科学与技术全国会议
论文部分内容阅读
Chemical vapor deposition (CVD) is broadly recognized as a flexible and economic method of large area and high quality graphene synthesis,while our understanding on the mechanism of graphene CVD growth is very limited.Although extensive experimental and theoretical studies have neen carried,[1-7] the most concerned issues of graphene CVD growth that is graphene CVD growth epitaxial and how the graphene orientation is determined during CVD growth are still not well clear.Here we present our recent theoretical study regarding on this issue.
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