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反应溅射Ti-Si-N纳米晶复合薄膜研究
反应溅射Ti-Si-N纳米晶复合薄膜研究
来源 :第十三届全国电子显微学会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:poneey
【摘 要】
:
大量研究表明,在TiN或其他过渡金属化合物中加入Si,形成以SiN界面相分隔并包裹氮化物纳米晶的微结构的确是一条通过微结构设计获得高硬度薄膜的有效途径.
【作 者】
:
戴嘉维
陈练
李戈扬
胡祖光
祝新发
【机 构】
:
上海交通大学材料科学与工程学院(上海)
【出 处】
:
第十三届全国电子显微学会议
【发表日期】
:
2004年期
【关键词】
:
反应溅射
纳米晶
过渡金属化合物
微结构设计
相分隔
高硬度
氮化物
界面
薄膜
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大量研究表明,在TiN或其他过渡金属化合物中加入Si,形成以Si<,3>N<,4>界面相分隔并包裹氮化物纳米晶的微结构的确是一条通过微结构设计获得高硬度薄膜的有效途径.
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