【摘 要】
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采用热丝化学气相沉积法（HPCVD），以甲烷和氢气为反应气体，在Mo-Re合金箔片（d=6μm）上沉积金刚石薄膜。采用X射线衍射仪（XRD），扫描电子显微镜（SEM），显微激光拉曼光谱仪（Raman）分别对金刚石薄膜相组成、表面形貌、晶粒大小和质量等进行检测分析，讨论了各沉积参数，如基体温度，甲烷浓度，沉积压强对金刚石薄膜生长的影响。结果表明，在基体温度Tsub=750℃，甲烷浓度CH4：H2=1
【机 构】
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中南大学材料科学与工程学院， 湖南长沙 410083
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采用热丝化学气相沉积法（HPCVD），以甲烷和氢气为反应气体，在Mo-Re合金箔片（d=6μm）上沉积金刚石薄膜。采用X射线衍射仪（XRD），扫描电子显微镜（SEM），显微激光拉曼光谱仪（Raman）分别对金刚石薄膜相组成、表面形貌、晶粒大小和质量等进行检测分析，讨论了各沉积参数，如基体温度，甲烷浓度，沉积压强对金刚石薄膜生长的影响。结果表明，在基体温度Tsub=750℃，甲烷浓度CH4：H2=1.5：50,沉积压强P=3.5KPa时，薄膜平均生长速率高达1μm/h，得到的金刚石膜完整致密，晶粒大小均匀，纯度最高，有明显的（111）织构。
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