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多源物理气相沉积在功能薄膜制备领域有着广泛的应用,精确控制沉积组分是保证薄膜具有优异性能的先决条件.在沉积生长过程中,各类原子/分子在沉积界面上的吸附几率影响着薄膜的组分比,而在特定条件下沉积界面的组分也会反作用于入射粒子的吸附几率,上述影响因素的耦合增加了组分调控的难度与不确定性.为实现对沉积薄膜组分的有效控制,需要深入研究沉积界面上各类原子或分子的吸附系数随薄膜组分、温度的变化规律.