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本文提出了一种改善集成器件中各部分之间耦合效率的新结构,通过SEM照片观察多种情况下的外延形貌,研究了不同的刻蚀方法和工艺步骤对对接外延质量的影响.实验结果表明,采用非选择生长同时外延激光器和调制器上波导层以及两者之间的对接波导的方法,可以获得很好的生长界面,有助于提高多量子阱波导对接的耦合效率.