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自蔓延高温合成Ｓｉ<,3>Ｎ<,4>研究的新进展
【机 构】
：
北京科技大学特种陶瓷与粉末冶金研究开发中心
【出 处】
：
’94秋季中国材料研讨会
【发表日期】
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1994年期
其他文献
对Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉结构瓷材料进行了研究Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉－Ｙ〈，２〉Ｏ〈，３〉－Ａｌ〈，２〉Ｏ〈，３〉－ＳｉＣｗ、Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉－Ｙ〈，２〉Ｏ〈，３〉－Ｌａ〈，２〉Ｏ〈，３〉、Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉－Ｙ〈，２〉Ｏ〈，３〉－Ｌａ〈，２〉Ｏ〈，３〉－ＳｉＣｗ、Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉＋ＴＺＰ等种组份的材料，及其室温弯曲强度和断裂韧性以及