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【摘 要】
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本文以HVPE设备和基本结构为基础，结合CFD计算机模拟技术，讨论并分析了现有HVPE反应室内在H2环境中和N2气环境中，炉内流场的特点、涡流的分布和随流量变化的趋势。可以看出H
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十六研究所, 天津 300220
【出 处】
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2014`全国半导体器件产业发展、创新产品和新技术研讨会暨第七届中国微纳电子技术交流与学术研讨会
【发表日期】
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2014年期
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