【摘 要】
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介绍了M型钡铁氧体薄膜的射频(RF)溅射法、对向靶溅射(FTS)法、脉冲激光沉积(PLD)法、溶胶-凝胶(Sol-gel)法等主要制备方法,综述了近年来M型钡铁氧体薄膜的制备工艺、基底及
【机 构】
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电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都610054
【出 处】
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第五届全国高性能软磁、永磁材料及应用研讨会
论文部分内容阅读
介绍了M型钡铁氧体薄膜的射频(RF)溅射法、对向靶溅射(FTS)法、脉冲激光沉积(PLD)法、溶胶-凝胶(Sol-gel)法等主要制备方法,综述了近年来M型钡铁氧体薄膜的制备工艺、基底及缓冲层、掺杂取代等问题的研究现状,并结合其应用讨论了钡铁氧体薄膜目前存在的问题及发展趋势.应该拓宽视野，不仅要加强在实验方向的研究，更要强化其理论上的探讨。
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