MPCVD法制备多孔碳膜用于高倍率电化学双电层电容

来源 :TFC`15全国薄膜技术学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wjbbio
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  以C2H2为碳源气体,Ar为放电气体,泡沫镍为基底,利用微波等离子体辅助化学气相沉积(MPCVD)法在不同微波功率、气体流量比及沉积时间下制备了多孔碳电极材料,用于高倍率电化学双电层电容器.通过XRD、Raman、SEM和TEM等检测手段对多孔碳材料的表面形貌、微结构、成分进行表征,通过循环伏安法、恒电流充放电和交流阻抗测试了其电化学性能.结果表明:泡沫镍表面明显沉积了一层多孔碳膜,相互连接成3D大孔网络结构.所形成的碳膜是由sp3杂化碳和sp2杂化碳混合形成.电化学测试显示所制备的多孔碳在微波功率为1000 w,C2H2、Ar气体流量比为10:2,沉积时间为60 min条件下具有优异的电化学性能.在扫描速率为0.05 V/s时,比电容达95.83 F/g.电流密度为10.0 A/g时,比电容为165.5 F/g.1000次循环后,比电容保持率为100%,稳定性良好.可见,该法制备的多孔碳膜作为双电层电容器的电极材料具有高倍率性能,可用于大电流充放电.
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