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在预非晶化硅衬底上淀积Ｔｉ金属膜，经６００℃及８５０℃，６０分钟退火形成硅化钛，在Ｔｉ硅化过程中释放的空位能消除硅衬底上的射程端缺陷，而没有淀积Ｔｉ膜的预非晶化硅样品，即使退火温度高达１０００℃，射程端缺陷也不能完全被消除。
用钛硅化过程中释放的空位消除离子注入射程端缺陷
【摘 要】
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在预非晶化硅衬底上淀积Ｔｉ金属膜，经６００℃及８５０℃，６０分钟退火形成硅化钛，在Ｔｉ硅化过程中释放的空位能消除硅衬底上的射程端缺陷，而没有淀积Ｔｉ膜的预非晶化硅样品，即使退火温度高达１０００℃，射程端缺陷也
【出 处】
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南京大学学报：自然科学版
【发表日期】
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1993年4期
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