碳离子注入纯锆后在1 mol/L硫酸溶液中的腐蚀行为

• 作 者: 彭德全 白新德 陈宝山
• 机 构: 清华大学,建中化学公司
• 出 处: 稀有金属材料与工程
• 发表日期: 2006年6期
• 关键词: 纯锆 耐蚀性 碳离子注入 zirconium corrosion resistance carbon ion implantation
• 基金项目: Supported by National Natural Science Foundation of China （G2000067207-1）.Acknowledgement： Special thanks should be given to the Ministry of Science and Technology of China for research funding （MSTC

为了研究碳离子注入对纯锆耐蚀性的影响,用MEVVA源对纯锆样品进行了1×10^16ions/cm^2至1×10^17ions/cm^2的碳离子注入,注入加速电压为40 kV.用X射线光电子能谱（XPS）和俄歇电子谱（AES）分析了注入样品表层元素的价态和深度分布.透射电镜（TEM）用来观察碳离子注入样品的微观结构;碳离子注入样品后相结构的变化用掠角X射线衍射（GAXRD）来检测.纯锆注入样品随后浸入1 mol/L的硫酸溶液中,测其极化曲线以评价其耐蚀性.发现：碳离子注入极大地提高了纯锆