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采用均匀沉淀法在表面包覆了SiO2的磁基体NiFe2O4上负载TiO2，从而制备出一种新型磁性纳米光催化材料TiO2／SiO2／NiFe2O4，并通过改变pH值、水浴时间、水浴温度、煅烧温度及Ti／Ni摩尔比n（Ti）：n（Ni）等得到材料的最佳制备条件。用XRD、TEM分析了复合材料的形态结构及包覆情况，结果显示TiO2均匀地包覆在SiO2／NiFe2O4表面，复合材料粒径范围为50-70nm；UV-vis吸收曲线表明，复合材料对光的吸收带出现红移。VSM测试表明复合材料具有良好的磁性，易于通过磁场进行