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为探究吕家坨井田地质构造格局,根据钻孔勘探资料,采用分形理论和趋势面分析方法,研究了井田7<
Fabrication of silica-on-silicon planar lightwave circuits by P ECVD and ECR
【摘 要】
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为探究吕家坨井田地质构造格局,根据钻孔勘探资料,采用分形理论和趋势面分析方法,研究了井田7
【机 构】
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State Key Laboratory of Laser Technology, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 43007
【出 处】
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黑龙江科技学院学报
【发表日期】
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2005年5期
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