【摘 要】
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一、前言大多数元素都可用真空沉积技术做成核靶,但真空沉积收集效率较低,用真空蒸发法制备1 mg/cm~2以上的靶是不容易的。镍的熔点和沸点很高(1450℃和2732℃),它的蒸汽压
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一、前言大多数元素都可用真空沉积技术做成核靶,但真空沉积收集效率较低,用真空蒸发法制备1 mg/cm~2以上的靶是不容易的。镍的熔点和沸点很高(1450℃和2732℃),它的蒸汽压非常低;当用W或Ta做坩埚蒸发镍时,会因形成合金的反应而迅速使坩埚崩解,每次蒸发的量必须小于坩埚重量的30%,所以用真空蒸发法制备每厘米~2毫克量级的镍靶就很困难了。
I. INTRODUCTION Most of the elements can be made into nuclear targets by vacuum deposition. However, the efficiency of vacuum deposition is relatively low. It is not easy to prepare targets of 1 mg / cm ~ 2 by vacuum evaporation. Nickel has a very high melting point and boiling point (1450 ° C and 2732 ° C), and its vapor pressure is very low. When W or Ta is used as a crucible to evaporate nickel, the crucible rapidly disintegrates due to the formation of an alloy reaction. The amount must be less than 30% by weight of the crucible, so it is difficult to prepare a nickel target in the order of one milligram to 2 milligram by vacuum evaporation.
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