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来源 :半导体情报 | 被引量 : [!--cite_num--]次 | 上传用户:[!--user--]
【摘 要】
:
<正> 我公司开发了能够适用于各种图形的相位移动法,称为“移相器遮光方式”。用该法试制了设计规则为0.4μm的64M DRAM,已确认具有64M第一代产品所需的光刻分辨率,与数值孔
【作 者】
:
中川健二
何翠英
【出 处】
:
半导体情报
【发表日期】
:
1992年3期
【关键词】
:
移相曝光
移相器
遮光方式
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