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首次采用完全化学镀工艺(包括基底镀前处理、活化与敏化、镀膜),在聚酰亚胺基片上直接镀制了钴基垂直磁记录介质膜,并对介质的结构特性与磁性能进行了较系统的研究。结果表明,完全湿法工艺可制备出满足垂直磁记录基本特性要求的良好介质,为垂直磁记录软盘的推广应用提供了一种具有实际意义的方法。
完全化学镀钴基垂直磁记录介质及其特性
【摘 要】
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首次采用完全化学镀工艺(包括基底镀前处理、活化与敏化、镀膜),在聚酰亚胺基片上直接镀制了钴基垂直磁记录介质膜,并对介质的结构特性与磁性能进行了较系统的研究。结果表明
【机 构】
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清华大学现代应用物理系,清华大学现代应用物理系
【出 处】
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信息记录材料
【发表日期】
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1990年2期
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