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应变异质结外延材料的缓冲层厚度与Frank—Read源的关系研究
应变异质结外延材料的缓冲层厚度与Frank—Read源的关系研究
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wx0020
【摘 要】
:
基于能量最小近氦模型,研究了应变异质结外延材料,中产生了Frand-Read源以释放失配能力所需GeSi合金缓冲层的厚度,对GexSi1-x/Si进行了具体计算,其结果表明:产生Frank-Read源时缓冲层厚度要比临界厚度大得多,Lmin=1300A是钉扎点间
【作 者】
:
邹吕凡
王占国
【机 构】
:
中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
1996年3期
【关键词】
:
应变异质结
外延材料
GoSi合金
Frank-Read源
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基于能量最小近氦模型,研究了应变异质结外延材料,中产生了Frand-Read源以释放失配能力所需GeSi合金缓冲层的厚度,对GexSi1-x/Si进行了具体计算,其结果表明:产生Frank-Read源时缓冲层厚度要比临界厚度大得多,Lmin=1300A是钉扎点间的最小距离。
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