反应磁控溅射制备超亲水性SiO2／TiO2多层膜的研究

来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：mini_fc

【摘要】

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本文采用反应磁控溅射的方法在玻璃基片上制备TiO2及SiO2／TiO2多层膜，利用X射线衍射（XRD）、原子力显微镜（AFM）、接触角测定等分析方法对试样进行表征。研究了不同制备工艺对薄膜亲

【作者】

：

王君安王浩薛双喜曹歆杨辅军汪汉斌高云黄忠兵

【机构】

：

湖北大学物理学与电子技术学院暨纳米技术研究中心

【出处】

：

真空科学与技术学报

【发表日期】

：

2006年2期

【关键词】

：

反应磁控溅射超亲水性二氧化钛锐钛矿 Reactive magnetron sputtering Super-Hydrophilicity TiO2

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本文采用反应磁控溅射的方法在玻璃基片上制备TiO2及SiO2／TiO2多层膜，利用X射线衍射（XRD）、原子力显微镜（AFM）、接触角测定等分析方法对试样进行表征。研究了不同制备工艺对薄膜亲水性能的影响，初步讨论了SiO2／TiO2多层膜的超亲水性机理。结果表明这种多层膜结构，其底层SiO2作用在于阻止玻璃中的钠离子在溅射过程中向薄膜中的扩散，适当厚度的顶层SiO2，一方面利用到了SiO2本身的亲水性，同时也利用到了TiO2薄膜的光致亲水性。因此在制备TiO2超亲水性薄膜的时候，考虑制备SiO2底层和顶层

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