基于H—Si(100)表面上原子层沉积Al2O3的仿真研究

来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sfish001
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通过对原子层沉积过程的计算机仿真,分析不同沉积条件对沉积过程的影响。以H-Si(100)表面原子层沉积Al2O3的过程为基础,通过分析基片上不同表面功能团之间的相互作用,将整个沉积过程分为初始沉积和后续生长两个阶段。基于不同的阶段建立相应的前驱体到达事件模型、反应事件模型以及表面解吸事件模型。采用动力学晶格蒙特卡罗方法实现这一沉积过程的仿真。实现了不同温度、不同真空条件下Al2O3的原子层沉积仿真。结果表明:在一定的范围内,前驱体或基片的温度高,反应室真空度低,薄膜生长速率的增长快,表面粗糙度小;基片温度
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