【摘 要】
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阐述了自加热效应产生的原因以及它对SOI电路的影响,并介绍了为克服自加热效应和满足某些特殊器件和电路的要求,国内外正在竞相探索研究的新型SOI结构,如SOIM、SilicononAlN
【机 构】
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中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室,中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室,中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室,中国科学
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阐述了自加热效应产生的原因以及它对SOI电路的影响,并介绍了为克服自加热效应和满足某些特殊器件和电路的要求,国内外正在竞相探索研究的新型SOI结构,如SOIM、SilicononAlN、GPSOI、SiCOI、GeSiOI、SON、SSOI等。结合SOI新结构制备工作,报道了SOI的自加热效应及其新结构的研究进展。
The reason of self-heating effect and its effect on SOI circuit are expounded. The new SOI structures that are being explored and studied at home and abroad to overcome the self-heating effect and meet the requirements of some special devices and circuits are also introduced. SOIM, SilicononAlN , GPSOI, SiCOI, GeSiOI, SON, SSOI and so on. Combined with the preparation of SOI new structure, the self-heating effect of SOI and the research progress of its new structure are reported.
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