γ-氨丙基二甲基乙氧基硅烷修饰蒙脱土及硅烷化蒙脱土的性能

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用单官能团硅烷偶联剂γ-氨丙基二甲基乙氧基硅烷(APMS)修饰蒙脱土(MMT),IR分析表明APMS通过化学键与蒙脱土键合。利用偶联剂上的氨基与水杨醛显色生成黄色希夫碱对404 nm处可见光的吸收特性进行定量测试,确定了蒙脱土可和偶联剂反应的活性硅羟基数目为29.6 mmol/(100gMMT),最佳烘干温度为120℃。XRD结果说明蒙脱土的活性硅羟基分布在其端面不是在层间。推断出蒙脱土和单官能团硅烷偶联剂的反应分两步进行:偶联剂的烷氧基先在水醇溶液中水解生成硅醇,然后和蒙脱土端面上的硅羟基高温干燥脱水形成硅烷化蒙脱土。偶联剂修饰蒙脱土后其阳离子交换容量(CEC)不变,分散性实验显示硅烷化蒙脱土在水中的分散性变差,在甲苯和乙醇中的分散性提高,说明偶联剂的修饰提高了MMT在有机溶剂中的分散性。
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